RCA 清洗機(jī)通(tōng)過多(duō)種化(hu☆π₩♥à)學溶液的(de)協同作(zuò)用(yòng)來(lái)實現(xiàn)清洗目的(de↓ε)。例如(rú),利用(yòng)強氧化(huà)性的(de)過氧化(huà)氫與氫氧化(huà★δ)铵的(de)混合溶液,能(néng)夠有(yǒu)效去(qù)除顆粒污染物↔¶β(wù),并在半導體(tǐ)表面形成一(yī)層緻密 ≤©¶的(de)氧化(huà)層,抑制(zhì)金(jīn)屬離(l ₽☆í)子(zǐ)的(de)吸附;而氫氟酸溶液則可(kě)精*去(qù)除氧化(huà)層φ ≈£,使半導體(tǐ)表面呈現(xiàn)出理(lǐ©®)想的(de)潔淨與活性狀态