This equipment&nbs< ≤p;is an immersed type c®φ&≥leaning system of quartzw®÷φ•are used forEPI proc≥÷Ωπessing in semiconductor& ¥nbsp;industry. 

The purpose of cleaning is&γ§₽nbsp;the removal of ÷εdeposits and residu​⣶als on the process environme₹>↔nt wall of EPI relevant&nbs∏φπ♠p;accessory parts maφαde of quartz. 

Quartzware is immer&• sed into a so‍$★lution completeφφly by transfer basket©↕<φ and uniformly wetted
for sufficient φ'>★;cleaning. System i•☆→ncorporates thre¥σαe (3) cleaning&≈©©γnbsp;process baths, mechanical
transfer module with agitation&γ♦​™nbsp;movement functionσΩ®, media supplyi•©¶₹ng & circul§♦₩&ation functions
and drain piping sy®☆γ≤stem. System operation is&n₽★♠‌bsp;controlled through&n'¥♠¥bsp;color touch-screen with
user-friendly graphi•"cal interface and PLλ™C control ←εsystem. Software provides ≤≥< data logging $®€εand
setting of automaΩ÷♦÷tic and manual&n←π​bsp;operations with ∏φ♣₹;safety interlock function,&nbsπ§±p;alarm function and
history record&nb≥€→sp;function. Module main&©★₽nbsp;body is con‍☆structed with PP materiaσ₩l to keep&nbs♥♥ ✔p;durability for strong✘☆₹ acid 
resistance. Acid vapor generated&π‍λ©nbsp;during processing ∏™is forcibly e£✘÷‍xhausted through exhaust&nβ↕bsp;uct with auto/ manual&≥∞ dumper